مقاله بهینه سازی فرآیند تولید پلاسما در افزاره های نیمه هادی سیلیسیمی با word
مقاله بهینه سازی فرآیند تولید پلاسما در افزاره های نیمه هادی سیلیسیمی با word دارای 7 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است
فایل ورد مقاله بهینه سازی فرآیند تولید پلاسما در افزاره های نیمه هادی سیلیسیمی با word کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.
این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است
توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی مقاله بهینه سازی فرآیند تولید پلاسما در افزاره های نیمه هادی سیلیسیمی با word،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد
بخشی از متن مقاله بهینه سازی فرآیند تولید پلاسما در افزاره های نیمه هادی سیلیسیمی با word :
سال انتشار: 1391
محل انتشار: پانزدهمین کنفرانس دانشجویی مهندسی برق ایران
تعداد صفحات: 7
چکیده:
ساخت پالس های الکتریکی توان بالا با زمان صعود زیر نانوثانیه، با بکارگیری سازوکار یونیزاسیون برخوردی سریع در افزاره 4 لایه نیمه هادی، امکان پذیر می شود. سازوکار یونیزاسیون برخوردی سریع در ساختارهای نیمه هادی، سریعترین روش غیر نوری تولید پالس های سریع نانوثانیه ای و توان بالا ، محسوب می شود. در این مقاله، فرایند تولید پلاسمای الکترون و حفره و سازوکار یونیزاسیون برخوردی سریع در ساختار 4 لایه نیمه هادی با بستر سیلیسیمی، به کمک تحلیل های عددی، بررسی می شود . در ادامه، عوامل تاثیرگذار مانند غلظت ناخالصی تزریق شده در بستر و ضخامت لایه بستر در سرعت کلیدزنی و میزان جریان تولیدی در این افزاره، مورد بحث قرار می گیرد و راهکاری در جهت بهینه سازی کلید نیمه هادی 4 لایه ارائه می گردد